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研磨用碳化硅

研磨用碳化硅

  • 详解碳化硅晶片的磨抛工艺方案 - 知乎

    2023年4月28日  研磨工艺是去除切割过程中造成碳化硅晶片的表面刀纹以及表面损伤层,修复切割产生的变形。 由于SiC的高硬度,研磨过程中必须使用高硬度的磨料(如碳化硼或金刚石粉)研磨SiC切片的晶体表面。5 天之前  摘要. 碳化硅衬底难加工的材料特性叠加其大尺寸化、超薄化的放大效应,给现有的加工技术带来了巨大的挑战,高效率、高质量的碳化硅衬底加工技术成了当下的研究热点.本文综述了碳化硅衬底机械磨抛加工技术和化学反应磨抛加工技术的研究进展,对比各类 ...碳化硅衬底磨抛加工技术的研究进展与发展趋势 - 艾邦半导体网2023年12月5日  案例分析:用于碳化硅等先进材料的金刚石抛光液. 与传统的CMP方法相比,Qual Diamond自主研发的金刚石抛光液提供了更高的去除率(它可以将8到24小时的蓝宝石基板抛光时间缩短到14-40),大大减少了处理时间和步骤。 抛光后的表面光滑、均匀、干净,没有明显损伤。 更重要的是,环保指数高,成本较为低廉,易于使用和清洁。 2 半导体碳化硅(SIC)晶片磨抛工艺方案的详解; - 知乎专栏

  • 碳化硅在磨具磨料中的普遍应用

    2014年12月13日  碳化硅 材料作为应用行业领域最为广泛的一种磨料,由于其化学性能稳定、导热系数高、热膨胀系数小、耐磨性能好,除作磨料用外,还有很多其他应用。. 众所周知,磨削是机械加工中不可替代而且是逐渐扩展的加工方法。. 所谓磨料就是指在磨削 ...2024年2月4日  碳化硅晶片的化学机械抛光技术(CMP)是一种先进的表面处理技术,结合化学腐蚀和机械研磨的方法,通过选择合适的化学腐蚀剂、研磨剂、控制抛光参数和采用精密抛光设备,实现对碳化硅晶片表面的精细处理,达到超光滑、无缺陷及无损伤表面的效果。SiC的化学机械抛光技术:实现超光滑表面的秘诀 - ROHM ...2022年6月27日  用于量产低缺陷功率和半绝缘 SiC (碳化硅)基板的高性能研磨液. Entegris 是 SiC(碳化硅)抛光研磨液的市场领导者。 该产品旨 在满足 Si 面、C 面和多晶 SiC 晶圆从研磨到 CMP 处理等基 板制造工艺流程中的各种抛光规格要求。 我们针对批量生产和单 晶圆 CMP 系统提供优化的解决方案,使用成本低,而且先进的 配方可实现比现 特种化学品和工程材料 碳化硅 (SiC) - Entegris

  • 超声振动辅助研磨单晶碳化硅晶片工艺研究

    2021年12月9日  摘要: 针对传统研磨方法加工单晶碳化硅晶片存在的材料去除率低、磨料易团聚等问题,本文提出超声振动辅助研磨方法,并探究不同工艺参数(转速、磨料质量分数、抛光压力、磨料粒径)对单晶碳化硅晶片研磨效率和表面质量的影响规律。2024年9月14日  碳化硅微粉是黑色金属粗抛和精磨的理想研磨介质, 半导体, 甚至陶瓷. 碳化硅砂轮 研磨机配有轮子,可在更大的表面区域连续运行和应用.高级陶瓷: 碳化硅磨料, 完整指南 - 河南优之源磨料2024年8月24日  碳化硅的硬度和耐磨性使其成为陶瓷和玻璃研磨和成型的理想选择, 众所周知,使用传统材料很难加工. 碳化硅砂轮对环境的影响 Silicon carbide grinding wheels offer some notable environmental benefits over traditional materials .碳化硅研磨 - 河南优之源磨料

  • 研磨用碳化硅

    研磨用碳化硅 化学式为SiC,具有耐磨性和优良的机械性能,具有如下特性: 低密度、高强度; 耐高温; 较强的耐磨性能和抗摩擦性; 对于温度骤然变化时,具有较好的稳定性; 优良的抗化学腐蚀性和抗氧化性;2023年4月28日  研磨工艺是去除切割过程中造成碳化硅晶片的表面刀纹以及表面损伤层,修复切割产生的变形。 由于SiC的高硬度,研磨过程中必须使用高硬度的磨料(如碳化硼或金刚石粉)研磨SiC切片的晶体表面。详解碳化硅晶片的磨抛工艺方案 - 知乎5 天之前  摘要. 碳化硅衬底难加工的材料特性叠加其大尺寸化、超薄化的放大效应,给现有的加工技术带来了巨大的挑战,高效率、高质量的碳化硅衬底加工技术成了当下的研究热点.本文综述了碳化硅衬底机械磨抛加工技术和化学反应磨抛加工技术的研究进展,对比各类 ...碳化硅衬底磨抛加工技术的研究进展与发展趋势 - 艾邦半导体网

  • 半导体碳化硅(SIC)晶片磨抛工艺方案的详解; - 知乎专栏

    2023年12月5日  案例分析:用于碳化硅等先进材料的金刚石抛光液. 与传统的CMP方法相比,Qual Diamond自主研发的金刚石抛光液提供了更高的去除率(它可以将8到24小时的蓝宝石基板抛光时间缩短到14-40),大大减少了处理时间和步骤。 抛光后的表面光滑、均匀、干净,没有明显损伤。 更重要的是,环保指数高,成本较为低廉,易于使用和清洁。 2 2014年12月13日  碳化硅 材料作为应用行业领域最为广泛的一种磨料,由于其化学性能稳定、导热系数高、热膨胀系数小、耐磨性能好,除作磨料用外,还有很多其他应用。. 众所周知,磨削是机械加工中不可替代而且是逐渐扩展的加工方法。. 所谓磨料就是指在磨削 ...碳化硅在磨具磨料中的普遍应用2024年2月4日  碳化硅晶片的化学机械抛光技术(CMP)是一种先进的表面处理技术,结合化学腐蚀和机械研磨的方法,通过选择合适的化学腐蚀剂、研磨剂、控制抛光参数和采用精密抛光设备,实现对碳化硅晶片表面的精细处理,达到超光滑、无缺陷及无损伤表面的效果。SiC的化学机械抛光技术:实现超光滑表面的秘诀 - ROHM ...

  • 特种化学品和工程材料 碳化硅 (SiC) - Entegris

    2022年6月27日  用于量产低缺陷功率和半绝缘 SiC (碳化硅)基板的高性能研磨液. Entegris 是 SiC(碳化硅)抛光研磨液的市场领导者。 该产品旨 在满足 Si 面、C 面和多晶 SiC 晶圆从研磨到 CMP 处理等基 板制造工艺流程中的各种抛光规格要求。 我们针对批量生产和单 晶圆 CMP 系统提供优化的解决方案,使用成本低,而且先进的 配方可实现比现 2021年12月9日  摘要: 针对传统研磨方法加工单晶碳化硅晶片存在的材料去除率低、磨料易团聚等问题,本文提出超声振动辅助研磨方法,并探究不同工艺参数(转速、磨料质量分数、抛光压力、磨料粒径)对单晶碳化硅晶片研磨效率和表面质量的影响规律。超声振动辅助研磨单晶碳化硅晶片工艺研究2024年9月14日  碳化硅微粉是黑色金属粗抛和精磨的理想研磨介质, 半导体, 甚至陶瓷. 碳化硅砂轮 研磨机配有轮子,可在更大的表面区域连续运行和应用.高级陶瓷: 碳化硅磨料, 完整指南 - 河南优之源磨料

  • 碳化硅研磨 - 河南优之源磨料

    2024年8月24日  碳化硅的硬度和耐磨性使其成为陶瓷和玻璃研磨和成型的理想选择, 众所周知,使用传统材料很难加工. 碳化硅砂轮对环境的影响 Silicon carbide grinding wheels offer some notable environmental benefits over traditional materials .研磨用碳化硅 化学式为SiC,具有耐磨性和优良的机械性能,具有如下特性: 低密度、高强度; 耐高温; 较强的耐磨性能和抗摩擦性; 对于温度骤然变化时,具有较好的稳定性; 优良的抗化学腐蚀性和抗氧化性;研磨用碳化硅2023年4月28日  研磨工艺是去除切割过程中造成碳化硅晶片的表面刀纹以及表面损伤层,修复切割产生的变形。 由于SiC的高硬度,研磨过程中必须使用高硬度的磨料(如碳化硼或金刚石粉)研磨SiC切片的晶体表面。详解碳化硅晶片的磨抛工艺方案 - 知乎

  • 碳化硅衬底磨抛加工技术的研究进展与发展趋势 - 艾邦半导体网

    5 天之前  摘要. 碳化硅衬底难加工的材料特性叠加其大尺寸化、超薄化的放大效应,给现有的加工技术带来了巨大的挑战,高效率、高质量的碳化硅衬底加工技术成了当下的研究热点.本文综述了碳化硅衬底机械磨抛加工技术和化学反应磨抛加工技术的研究进展,对比各类 ...2023年12月5日  案例分析:用于碳化硅等先进材料的金刚石抛光液. 与传统的CMP方法相比,Qual Diamond自主研发的金刚石抛光液提供了更高的去除率(它可以将8到24小时的蓝宝石基板抛光时间缩短到14-40),大大减少了处理时间和步骤。 抛光后的表面光滑、均匀、干净,没有明显损伤。 更重要的是,环保指数高,成本较为低廉,易于使用和清洁。 2 半导体碳化硅(SIC)晶片磨抛工艺方案的详解; - 知乎专栏2014年12月13日  碳化硅 材料作为应用行业领域最为广泛的一种磨料,由于其化学性能稳定、导热系数高、热膨胀系数小、耐磨性能好,除作磨料用外,还有很多其他应用。. 众所周知,磨削是机械加工中不可替代而且是逐渐扩展的加工方法。. 所谓磨料就是指在磨削 ...碳化硅在磨具磨料中的普遍应用

  • SiC的化学机械抛光技术:实现超光滑表面的秘诀 - ROHM ...

    2024年2月4日  碳化硅晶片的化学机械抛光技术(CMP)是一种先进的表面处理技术,结合化学腐蚀和机械研磨的方法,通过选择合适的化学腐蚀剂、研磨剂、控制抛光参数和采用精密抛光设备,实现对碳化硅晶片表面的精细处理,达到超光滑、无缺陷及无损伤表面的效果。2022年6月27日  用于量产低缺陷功率和半绝缘 SiC (碳化硅)基板的高性能研磨液. Entegris 是 SiC(碳化硅)抛光研磨液的市场领导者。 该产品旨 在满足 Si 面、C 面和多晶 SiC 晶圆从研磨到 CMP 处理等基 板制造工艺流程中的各种抛光规格要求。 我们针对批量生产和单 晶圆 CMP 系统提供优化的解决方案,使用成本低,而且先进的 配方可实现比现 特种化学品和工程材料 碳化硅 (SiC) - Entegris2021年12月9日  摘要: 针对传统研磨方法加工单晶碳化硅晶片存在的材料去除率低、磨料易团聚等问题,本文提出超声振动辅助研磨方法,并探究不同工艺参数(转速、磨料质量分数、抛光压力、磨料粒径)对单晶碳化硅晶片研磨效率和表面质量的影响规律。超声振动辅助研磨单晶碳化硅晶片工艺研究

  • 高级陶瓷: 碳化硅磨料, 完整指南 - 河南优之源磨料

    2024年9月14日  碳化硅微粉是黑色金属粗抛和精磨的理想研磨介质, 半导体, 甚至陶瓷. 碳化硅砂轮 研磨机配有轮子,可在更大的表面区域连续运行和应用.2024年8月24日  碳化硅的硬度和耐磨性使其成为陶瓷和玻璃研磨和成型的理想选择, 众所周知,使用传统材料很难加工. 碳化硅砂轮对环境的影响 Silicon carbide grinding wheels offer some notable environmental benefits over traditional materials .碳化硅研磨 - 河南优之源磨料研磨用碳化硅 化学式为SiC,具有耐磨性和优良的机械性能,具有如下特性: 低密度、高强度; 耐高温; 较强的耐磨性能和抗摩擦性; 对于温度骤然变化时,具有较好的稳定性; 优良的抗化学腐蚀性和抗氧化性;研磨用碳化硅

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